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KDP晶体超精密飞切机床
一、仪器简介 1、型号：600 2、生产厂家：哈尔滨工业大学 3、主要技术指标： 1）最大平面加工范围：600 mm × 450 mm； 2）样品厚度：≤40mm； 3）超精密切削KDP晶体表面粗糙度（rms）：≤ 6nm； 4）加工工件平面度误差：≤ 1.5 μm(200 × 200 mm铝镜)。 二、设备功能（测试项目） 可实现对软脆材料的精密抛光，最大平面加工范围：≥ 600 mm
2025年10月13日 -
全自动高精度折射率仪
一、仪器简介 1、型号：HR UV-VIS-NIR-IR 2、生产厂家：德国TRIOPTICS GmbH光学仪器公司 3、主要技术指标： 折射率测量波长范围：253.8nm~11µm； 测量精度：UV:±3×10-6VIS:±2×10-6IR:±-5×10-6 二、设备功能（测试项目） 体块晶体材料和玻璃材料折射率测量 三、样品要求 通光面抛光。 四、收费标准 1、紫外-可见-近红外5000元
2025年10月13日 -
多功能x射线衍射仪
一、仪器简介 1、型号：D8 Advance 2、生产厂家：Bruker AXS 3、主要技术指标： X射线发生器：3KW,测角范围：-110°～168°,测角重现性：±0.0001° 二、设备功能（测试项目） 1）物相定性与定量分析 2）晶体点阵常数精确测定 三、样品要求 1、粉末、无毒、不挥发、不潮解 四、收费标准 1、校内130元/小时 2、校内50元/样品 五、联系方式 1、联系人：张健
2025年10月13日 -
激光损伤阈值测量系统
一、仪器简介 1、型号： 激光损伤阈值测试平台总控系统NP-LIDT-355 纳秒固体激光器SGR-20 2、生产厂家： 激光损伤阈值测试平台总控系统成都多谱光学 纳秒固体激光器镭宝光电 3、主要技术指标： 纳秒固体激光器 1）包含三个波长，分别为1064nm.532nm,355nm 2）能量分别为2J@1064nm，1J@532nm，0.5J@355nm 3）能量稳定性1064nm＜1
2025年10月13日 -
光学材料体内吸收测量仪
一、仪器简介 1、型号：PTB-2000-C 2、生产厂家：合肥知常光电科技有限公司 3、主要技术指标： 光热弱吸收测量模块 1）检测波长：355nm，532nm，1064nm。吸收率检测灵敏度≤0.01ppm。具备透射式和反射式两种检测模式，可通过操作软件一键式自动切换。 2）最大可检测样品尺寸100 mm×100 mm×10 mm，最小口径约10mm。最高扫描空间分辨率≤1μm。 3）可进
2025年10月13日 -
伽马射线探测设备
一、仪器简介 1、型号： 142A前置放大器 659高压电源 672谱放大器(带自动极零功能) 480脉冲发生器 928多通道分析仪 2、生产厂家：美国ORTEC 3、主要技术指标： 1. 142A Preamplifier前置放大器 2. 659 5-kV Detector Bias Supply偏压电源 3. 672 Spectroscopy Amplifier (with AUTO-PZ
2025年10月13日 -
紫外-可见-近红外分光光度计
一、仪器简介 1、型号：Lambda 1050+ 2、生产厂家：PerkinElmer 3、主要技术指标： 预校准光源,自动切换,光源收集镜，全反射光路,带SiO2保护层,全息光栅(紫外/可见刻线数为1440条/mm,近红外360条/mm ),最先进的CSSC技术,波长精度最高0.08nm，光谱带宽0.05~5nm(紫外可见), 0.2~20nm(近红外)，未配置积分球。线性范围宽:紫外/可见
2025年10月13日 -
可见及近红外消光比测试平台
一、仪器简介 1、型号：HY2000-IT 2、生产厂家：access laser 3、主要技术指标： 测试波长：633 nm，1064 nm 消光比测量范围：≥45 dB 消光比测量精度：< ±0.5 dB 偏振方向：可旋转测量不同偏振方向下的消光比 激光源：单横模；光源功率波动≤ 1%；发散度≤ 3mrad 工作温度：室温 二、设备功能（测试项目） 1、核心功能：精确测量工作在可见及近红外
2025年10月13日 -
超大口径KDP/DKDP晶体切割机
一、仪器简介 1、型号：HGJ-1300 2、生产厂家：北京微纳精密机械有限公司 3、主要技术指标： 1）最大切割范围：1050mm×750mm； 2）切割速度：0.1mm/min~2mm/min； 3）切割缝宽度：＜1mm； 4）切割尺寸精度：±0.2mm； 5）平行度：0.3mm/300mm。 二、设备功能（测试项目） 可实现对晶体、玻璃、陶瓷等大口径脆性材料的精密切割，最大切割范围
2025年10月13日 -
工业测量正置显微镜
一、仪器简介 1、型号：DM4 M 2、生产厂家：Leica 3、主要技术指标： 1）数字化智能显微控制模块，LED光源， 2）物镜5X,10X,20X,50X,100X,目镜10X, 3）透射反射偏光模块，DIC模块， 4）1200万像素数码摄像头，滤色片， 5）相关配套软件以及电脑。 二、设备功能（测试项目） 1、样品多模式观察 配备明场、暗场、微分干涉相称(DIC)、偏振及荧光对比模式，可
2025年10月13日 -
3-5 μm消光比测试平台
一、仪器简介 1、型号：LS3600-30 2、生产厂家：access laser 3、主要技术指标： 测试波长：3.6μm 消光比测量范围：≥45 dB 消光比测量精度：< ±0.5 dB 偏振方向：可旋转测量不同偏振方向下的消光比 激光源：单横模；光源功率波动≤ 1%；发散度≤ 3mrad 工作温度：室温 二、设备功能（测试项目） 1、核心功能：测量工作在3.6μm波长的各种光学元器件的消光
2025年10月13日 -
10.6μm消光比测试平台
一、仪器简介 1、型号：LASL-3 2、生产厂家：Access Laser公司 3、主要技术指标： 测试波长：10.6μm 消光比测量范围：20 dB ~ 50 dB 消光比测量精度：< ±0.5 dB 偏振方向：可旋转测量不同偏振方向下的消光比 激光源：单横模；光源功率波动≤ 1%；发散度≤ 3mrad 工作温度：室温 二、设备功能（测试项目） 1、核心功能：测量工作在10.6μm波长的各种
2025年10月13日 -
太阳电池量子效率测试系统
一、仪器简介 1、型号：OTEST HIFINITY 5 2、生产厂家：美国颐光科技有限公司 3、主要技术指标： 光谱测试范围：基本测量范围300-1100nm 选项1：紫外扩展范围延伸200nm 选项2：近红外扩展范围延伸1800nm 选项3：近红外扩展范围延伸2500nm 系统测量精度：≤0.5%（在信号强度的情况下） 系统测量重复性： 400 ≤ λ < 440 nm优于0.2% 450
2025年10月13日 -
低能反光电子能谱仪
一、仪器简介 1、型号：PHI GENESIS 500 2、生产厂家：爱发科费恩斯 3、主要技术指标： X射线聚焦束斑直径：5um~400um（Al靶） Ar离子枪：刻蚀区域从最小束斑到10x10mm连续可调，离子能量为0-5keV连续可调。 GCIB离子枪：Ar2500团簇离子枪的电压、束流、束斑等多参数可调。紫外光源UPS：He I灵敏度Ag 4d @ 3 Mcps，能量分辨率优于110
2025年10月13日 -
Parylene 真空气相沉积系统
一、仪器简介 1、型号：VPC-300 2、生产厂家：派珂纳米科技（苏州）有限公司 3、主要技术指标： 沉积速率与厚度控制：沉积速率0.1Å/s~1Å/s，可根据需求精确调控。沉积薄膜厚度在1μm内根据所需可控，能满足从超薄膜到较厚防护膜的不同需求。 沉积均匀性：沉积粗糙度Rms＜1nm，确保每片样品及不同批次样品间薄膜厚度高度一致，保证产品质量稳定性。 压力控制：沉积室压力小于20mT。 冷阱
2025年10月13日
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