该研究方向包括采用MOCVD、射频溅射等先进材料制备方法制备低维功能晶体材料，涵盖二维（薄膜）一维(纤维)和准零维(微纳米材料),并探索和制备相关原型器件.这一方向研究工作包含了半导体薄膜、铁电薄膜和有机薄膜材料，还包括了光波导材料，具有层状结构的合金或化合物型磁性材料，高温氧化物连续纤维以及微米\纳米材料等。低维材料是信息时代的材料基础，薄膜和相关异质结构的发展代表着当前低维材料的发展的主流，已广泛应用于制作高效发光管、激光管、铁电存储器件以及磁电子随机存储器(MRAM)等方面,并对光通讯、光显示、光存储等高新技术产业的形成和发展起着关键性的作用。本方向在进一步扩展薄膜材料的研究及应用的同时，开展了微/纳米材料的制备、性能测试,表征和应用等方面的研究工作，并在纳米材料的制备技术上取得了突破。本方向的近、中期目标是：依据现代信息科技发展和应用的需求，探索低维材料制备的新原理和技术，开拓新型功能低维材料和相关的异质新结构，进而发掘新器件；近期（1）加速量子阱异质结构制备和相关光电子器件芯片产业化关键技术的完善；（2）开展铁电/半导体、铁磁/半导体等材料，异质结，输运性和功能效应的研究；（3）BN纳米材料的表面结构及其功能效应（如催化）研究；（4）开展高温氧化物、氮化物纤维关键制备技术及性能、应用研究。