一、仪器简介

1、型号：TEM-150

2、生产厂家：厦门韫茂科技有限公司

3、主要技术指标：（1）工艺温度：正常室温到250℃之间可调；（2）成膜不均匀性：＜1%；（3）前驱体源：配备不少于4个单管式50ml前驱体源，一条清扫气线；（4）进样室采用抽屉式装载样品，可装6寸晶圆片大小；（5）腔体需为真空腔体，250℃高温腔体，温度控制精度250±1℃；（6）包括多组毫秒级ALD阀门，响应时间≤5ms，ALD阀组采用紧凑式面板安装，氧化源管路采用双阀门设计；（7）阀组采用自动化加热，最高加热温度≥180℃；（8）设备极限真空度≤50mtorr。（9）配备专业的ALD泵前级过滤器，保护真空泵；（10）需配备一体式工控机≥12.1寸，带触摸功能；（11）软件基本功能：行业标准多个GUI界面，用于自动和手动操作，系统监视器，报警和配方编辑，工艺菜单编辑功能，简易工步预设格式，多工艺菜单存储功能；（12）报警及安全控制：配备温度，压力，气体流量，源串扰，卸载，电气和气动控制异常报警系统。

二、设备功能（测试项目）

1、主要用于沉积高质量纳米薄膜，包括半导体器件、电池材料、二维材料、催化材料等。

2、该机可在各类平面及具有三维结构的样品表面以原子层沉积的方式生长各种氧化物。

三、样品要求

样品台为6英寸，进样高度不超过1厘米，样品不能为粉末。

四、收费标准

具体测试收费视情况而定

五、联系方式

1、联系人：陈皓，haochen@sdu.edu.cn

2、设备放置地点：晶体材料楼524室