一、仪器简介

1、型号：Resiscope-HPS

2、生产厂家：CSI Nano-Observer

3、主要技术指标：

Resiscope-HPS是一个具有高灵敏度和高分辨率的独特系统，能够测量的电阻范围超过10个数量级。它可以与多种动态力模式相结合如MFM/EFM或单通KFM，在同一扫描区域内测量多种样品表征。测量方法是通过在样品和导电的AFM探针之间施加一个直流偏置（针尖接虚拟地）。针尖是以接触模式扫描，利用激光偏转信号作为AFM反馈。作为一个独立的测量功能，Resiscope-HPS是通过高性能的放大器（HPA）来测量样品电阻值的。样品是由探针以接触模式扫描，利用激光偏转信号作为AFM反馈。

二、设备功能（测试项目）

用于半导体材料高精度电学性质测量的专用设备，在测量样品表面形貌的同时得到样品的电学性质，如导电率，介电常数，载流子浓度，载流子类型等。

①接触/摩擦&振荡模式/相位

②Conductive AFM（导电AFM）

③PFM (压电响应)

④MFM/EFM（磁力/静电力）

⑤力调制

⑥HD-KFM (高清晰度开尔文力显微镜)

⑦ResiScope (电流/电阻值超过10个数量级)

⑧MLFM模式-横向磁场显微镜，多种环境-EZ温度, EZ液体,大气环境控制&热测量。

三、样品要求

1、表面污染物（如氧化物、有机残留）会显著影响电容/电阻测量，需通过超声清洗或等离子处理去除。

2、微波穿透深度较强，但过厚样品可能导致信号衰减，建议厚度与微波波长（λ）匹配，通常为微米至毫米级。

四、收费标准

1、需根据样品表面平整度和化学特性收费。

五、联系方式

1、联系人：

李志文，17866701303，1312577568@qq.com

王老师，wangzeyan@sdu.edu.cn

2、设备放置地点：济南(中心校区)生命北楼325