一、仪器简介

1、型号：JCP500

2、生产厂家：泰科诺

3、主要技术指标：

（1）真空腔室：Ф500×H420mm；

（2）加热温度：室温~500℃；

（3）真空极限：6.0×10^-5Pa（设备空载抽真空24小时内）；

（4）工艺气体：3路气体流量控制；

（5）基片台尺寸：Ф150mm；

（6）溅射靶配置：2支2英寸磁控溅射靶，采用磁控靶从侧面溅射镀膜；

二、设备功能（测试项目）

1. 可制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜、透明导电薄膜等；

2. 单靶溅射/多靶依次溅射或共同溅射，兼容DC/MF/RF溅射等功能。

三、样品要求

样品加工适用于平面、圆柱面等

四、收费标准

1.校内送样测试:300元/时；

2.校外送样测试: 600元/时。

五、联系方式

1、联系人：任宏凯，15063390520，renhk@sdu.edu.cn

2、设备放置地点：济南(中心校区)功能材料楼B26(B26)