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真空蒸发镀膜机

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发布时间:2025年10月13日 11:03
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一、仪器简介

1、型号:DEPOX

2、生产厂家:ULVAC KIKO株式会社

3、主要技术指标:

极限真空压力:~4.0 × 10⁻⁴ Pa(常规),使用液氮冷阱时可达~2.0 × 10⁻⁴ Pa

抽气时间:约10 min可降至4.0 × 10⁻³ Pa

真空泵系统:涡轮分子泵345 L/s +涡旋干式前级泵250 L/min

真空计:皮拉尼真空计+电离真空计双重配置

蒸发电源:PSE-150C电阻加热源,0–10 V控制,最大150 A

腔体尺寸:玻璃钟罩腔体,约φ300 mm×300 mm高

基板尺寸:最大可达140 mm

源-基板距离:约200 mm

电源需求:主体机单相100 V(0.9 kVA),蒸发电源单相200 V(1.5 kVA

二、设备功能(测试项目)

1、薄膜沉积方式:电阻加热蒸发(Resistance Heating Evaporation);

2、成膜能力:可实现金属、半导体、有机分子及部分无机盐的蒸发沉积;

3、多层膜沉积:仅支持单源蒸发;

4、冷阱配置:可选液氮冷阱以提高真空质量,降低杂质与水汽干扰;

5、端口设计:机身配备多个馈通端口,可扩展基片加热器、气氛引入或监测装置。

三、样品要求

1、基板:需耐高真空和一定热辐射冲击,尺寸不超过140 mm;

2、蒸发源材料:适合电阻加热方式蒸发的金属、金属卤化物或有机小分子;

3、膜厚控制:可通过石英晶体膜厚监控器等配套装置实现精确控制;

4、使用环境:避免吸湿性或易分解材料长时间暴露在空气中,应配合干燥和预处理工序。

四、收费标准

1、150元/小时;

五、联系方式

1、联系人:刘阳;15168890850;liuyangicmsdu@gmail.com;

2、设备放置地点:功能材料楼226;