一、仪器简介

1、型号：VPC-300

2、生产厂家：派珂纳米科技（苏州）有限公司

3、主要技术指标：

沉积速率与厚度控制：沉积速率0.1Å/s~1Å/s，可根据需求精确调控。沉积薄膜厚度在1μm内根据所需可控，能满足从超薄膜到较厚防护膜的不同需求。

沉积均匀性：沉积粗糙度Rms＜1nm，确保每片样品及不同批次样品间薄膜厚度高度一致，保证产品质量稳定性。

压力控制：沉积室压力小于20mT。

冷阱性能：冷阱采用不锈钢结构，由独立机械冷机制冷，冷凝器探头便于取出清洁。最低冷凝温度在25℃环境下低于-90℃。

二、设备功能（测试项目）

实现聚对二甲苯Parylene C的真空气相沉积，Parylene C有良好防潮、绝缘性能，可用作介电材料和封装材料。利用化学气相沉积工艺（CVD），分为三步：1.首先在真空环境、80℃左右，固态Parylene C材料升华成气态；2.在真空680℃左右，气态双分子裂解为活性单体；3.在真空、常温条件下，气态单体在基体表面生长聚合，能够在各种材料表面均匀沉积Parylene薄膜，为产品提供优良防护。该过程使Parylene膜层厚度可自由控制，且厚度均匀、完整无针孔。

三、样品要求

样品表面应清洁、干燥，无油污、灰尘、氧化物等杂质。若表面有杂质，会影响Parylene薄膜附着力和均匀性。对于表面粗糙度过大的样品，可能需预处理以保证薄膜沉积效果。

四、收费标准

根据送样品人所需厚度收费（每200nm收费100元），每次沉积样品数量不得多于10个。

五、联系方式

1、联系人：

李玉鑫电话：13081673815邮箱：1185642042@qq.com

何老师，the@sdu.edu.cn

2、设备放置地点：老晶体所南楼212实验室