一、仪器简介

1、型号：K975X

2、生产厂家：Quorum

3、主要技术指标：

1、仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H

2、工作腔室：硼硅酸盐玻璃165mm Dia x 125mm H

3、钟罩：聚碳酸酯

4、基座：110 mm直径，115mm高

5、重量：42公斤

6、靶：54 mm直径0.2mm厚(铬作为标准靶材)

7、样品台：50mm直径，具有倾斜功能的旋转样品台

8、操作真空：1×10^-2mbar到1×10^-4mbar

9、溅射电流：0-150mA

10、沉积速率：0-20nm/分

11、溅射定时：0-4分钟

12、涡轮分子泵：60 litres/Second (极限真空1×10^-8mbar)

二、设备功能（测试项目）

1、溅射易氧化金属精细颗粒，可定制靶材

三、样品要求

1、样品尺寸＜30 mm×30 mm

2、自备所需金属靶材

四、收费标准

1、2000元一个样品，自带靶材1000元一个样，面积超过Ф5 cm的3000元一个样品。

2、加急×1.5。

五、联系方式

1、联系人：穆文祥，mwx@sdu.edu.cn。

2、设备放置地点：新一代半导体材料研究院，471室。